金融界2024年12月6日消息，国家知识产权局信息显示，拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司取得一项名为“气体供给系统以及薄膜沉积设备”的专利，授权公告号CN 222100143 U，申请日期为2023年11月。

　　专利摘要显示，本实用新型属于太阳能电池制造技术领域，公开了一种气体供给系统以及薄膜沉积设备，气体供给系统用于向反应腔体提供气体，气体供给系统包括氧源系统、有机源系统、辅助气路和真空尾排系统；氧源系统包括多种氧源回路，多种氧源回路分别连通于反应腔体，氧源系统用于选择性地打开至少一种氧源回路并向反应腔体提供至少一种预设氧源；有机源系统包括多种有机源回路，多种有机源回路分别连通于反应腔体3377体育官网，有机源系统用于选择性地打开至少一种有机源回路并向反应腔体提供至少一种预设有机源；辅助气路连通于反应腔体，用于向反应腔体提供等离子体；真空尾排系统连通于反应腔体3377体育官网3377体育官网，用于对反应腔体、3377体育平台氧源回路、有机源回路和辅助气路进行抽真空处理。